交流磁控溅射制备ZAO薄膜工艺参数的研究

摘要：

对于交流磁控溅射氧化锌铝陶瓷靶材制备ZAO薄膜,研究了氧流量、基体温度、靶电流密度、铝的掺杂量、本底真空压力和工作气体压力对ZAO薄膜电学性能的影响规律,优化了工艺参数,为工业化生产提供了实验依据.

关键词：磁控溅射、ZAO薄膜、工艺参数、电阻率

所属期刊栏目：13

分类号：O484.4(固体物理学)

在线出版日期：2006-03-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：643-646