10.3969/j.issn.1005-0299.2001.04.026
Sol-Gel法制备PZT铁电薄膜新进展
从底电极的选择、过渡层的引入、外延膜的生长、取代阳离子的改性四个方面介绍了Sol-Gel法制备PZT铁电薄膜的研究进展,简述了PZT的Sol-Gel机理研究现状和引起PZT铁电薄膜极化疲劳的原因,分析了Sol-Gel法制备PZT铁电薄膜研究中存在的问题,并提出展望.
PZT、铁电、薄膜、Sol-Gel
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TB43(工业通用技术与设备)
国防科技预研基金OOJ18.5.2HT0133
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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