10.3969/j.issn.1005-0299.2000.03.009
多弧离子镀Ti-W-N多元多层膜的研究
采用Ti/W复合靶,用多弧离子镀技术沉积了Ti-W -N多元多层膜,并对其组织结构与性能进行了研究.结果表明:在本试验条件下多元膜的结构形式为(Ti, W)2N,最佳多层膜的结构形式为基体/Ti/TiN/(TiyW1-y )N/(Ti,W)2N,并具有较高的显微硬度和极低的孔隙率,在800 ℃具有很好的抗氧化性能.在沉积过程中存在着多元合金膜层与复合靶的成分离析现象,这与靶材的结构有关.
多弧离子镀、Ti-W-N多元膜、多层膜、组织与性能
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TG142;O484(金属学与热处理)
广东省高教厅科研项目970032;国家重点实验室基金960011
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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