离子钨钼共渗的表观过程

摘要：

研究了双层辉光离子钨钼共渗在离子轰击条件下形成渗层和无离子轰击时形成沉积层的表观过程．结果表明,在形成沉积层时,由于离子轰击作用已不存在,使渗层厚度减少26%, 用朗缪尔探针对双层辉光离子钨钼共渗过程进行了等离子体的诊断, 等离子体对表面成分有较大影响．合理的等离子体密度范围为5×1011～3×1012cm-3．

关键词：离子轰击、渗层厚度、表面成分、等离子体密度

所属期刊栏目：8

分类号：TG156.8(金属学与热处理)

资助基金：山西省青年科研项目971017

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：55-58