二次注射成型光学制件厚度截面的残余应力分析

摘要：

采用光弹法定量对比分析一次注射成型与二次注射成型光学制件在厚度截面上的残余应力.结果表明,一次注射成型和二次注射成型光学制件的截面残余应力分布均为双抛物线状,但后者的应力水平大于前者.同时,二次注射成型的PC/PC和PM M A/PM M A在界面处两侧的低应力层和零应力层消失,相反地,两层的界面处存在高应力峰.另外,与PMMA或PMMA/PMMA的双抛物线应力分布截然不同,PC/PMMA和PMMA/PC复合制件的PMMA层的残余应力表现为沿PM M A外侧面向界面方向逐渐增大的趋势.此外,PC和PM M A的注射顺序对二次注射成型复合制件的残余应力具有显著影响,主要体现在界面处和整个PC层.PC/PM M A的界面处应力明显高于PM M A/PC,且前者PC层靠近界面处仍存在低应力层和零应力层,而后者不存在此两种应力层.

关键词：二次注射成型、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、厚度截面、残余应力

所属期刊栏目：48

分类号：TQ320.66

在线出版日期：2020-11-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：88-95