P123对多孔TiN粉体孔结构及电化学性能的影响

摘要：

以四氯化钛为钛源,P123为模板剂,氰胺为稳定剂,采用溶胶凝胶法制备多孔TiO2粉体,再经900℃氨气还原氮化得到多孔TiN粉体.通过XRD,SEM,BET,TEM和SAXD等表征粉体物相组成与微观结构,并采用循环伏安法、交流阻抗法和恒流充放电法测试其电化学性能.结果 表明:合成粉体颗粒近似球形,为立方TiN相.相比之下,引入P123时所合成粉体中孔径尺寸为10～50nm的介孔数量增加,并存在孔径大小为2～3nm的微小孔道,同时孔道结构有序性有所提高,这有助于提升TiN粉体的电化学性能.因此,未加入P123合成TiN粉体的比电容仅为81F·g-1,内阻R1为1.1Ω,离子扩散阻抗W1为2.5Ω.引入P123合成TiN粉体的比电容提升到95F·g-1,R1和W1均有所减小,分别为0.9Ω和0.06Ω.

关键词：多孔TiN粉体、P123、还原氮化、电化学

所属期刊栏目：47

分类号：TB34;O614.41+1(工程材料学)

资助基金：国家自然科学基金资助项目51272066,51472072;河北省自然科学基金资助项目E2013209183;华北理工大学青年科学研究基金资助项目Z201413

在线出版日期：2019-10-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：93-100