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10.11868/j.issn.1001-4381.2016.001112

含氢硅油制备SiC晶须的研究

引用
以高含氢硅油为原料,在石墨基体上生长出SiC晶须.主要研究石墨基体的表面状态和加热温度对SiC晶须生长的影响,探究SiC晶须形成过程.影响SiC晶须形核和生长的主要因素为热处理温度,随着热处理温度的升高,SiC晶须的结晶产量也相应增高.石墨基体的表面状态对SiC晶须的形成也有一定的影响,随着石墨基体缺陷提供形核点的增多,SiC晶须的结晶产量提高,并且出现相互搭接的现象.SiC晶须的形成过程分为形核和生长两个部分,低温形核,高温生长,遵循VLS(气-液-固)生长机理.

SiC晶须、热处理温度、基体表面状态、生长机理

45

TB33(工程材料学)

河北省自然科学基金青年基金E2016209327;华北理工大学大学生创新创业训练计划项目X2016165;河北省科技计划项目16211505

2017-11-14(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共6页

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材料工程

1001-4381

11-1800/TB

45

2017,45(10)

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