Sb掺杂ZnTe薄膜结构及其光电性能

摘要：

采用真空蒸发工艺在玻璃衬底上制备了ZnTe和掺Sb-ZnTe多晶薄膜,并在氮气气氛中对薄膜进行热处理.分别利用XRD、SEM、紫外-可见分光光度计、霍尔效应测试仪对薄膜的晶体结构、表面形貌、元素组成以及光学、电学性能进行表征,研究Sb掺杂量和热处理对薄膜性能的影响.结果表明:未掺杂薄膜为沿(111)晶面择优生长的立方相闪锌矿结构,导电类型为P型.Sb掺杂并未改变ZnTe薄膜晶体结构和导电类型,但衍射峰强度降低;Sb含量直接影响着Sb在ZnTe中的存在形式,掺Sb后抑制了薄膜中Te和Zn的结合,使薄膜中Te的含量增加;室温下薄膜的光学透过率和光学带隙取决于掺Sb浓度和退火温度,并且掺Sb后ZnTe薄膜的载流子浓度显著增加,导电能力明显增强.

关键词：ZnTe薄膜、Sb掺杂、真空蒸发、光学性能、电学性能

所属期刊栏目：43

分类号：O484.4(固体物理学)

资助基金：内蒙古自治区教育厅项目NJ09006

在线出版日期：2015-05-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：35-41