PET衬底上ITO薄膜的制备及光电性能

摘要：

用脉冲磁控溅射法在柔性衬底聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)上制备了氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜,研究了溅射气压、时间和衬底温度等工艺条件对ITO薄膜光电性能的影响,并采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)对薄膜的物相结构与表面形貌进行了分析.结果表明:薄膜的平均晶粒尺寸随衬底温度的升高而增大;当溅射时间增加时,方块电阻与光透过率均减小;当衬底温度升高时,方块电阻减小,可见光透过率增大.

关键词：脉冲磁控溅射、氧化铟锡薄膜、PET

分类号：TB34(工程材料学)

资助基金：国家863高技术研究发展计划资助项目2006AA05Z417;大连市科技平台建设项目2010-354

在线出版日期：2014-04-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：71-76