磁控溅射掺碳TiB2薄膜的Raman光谱与摩擦行为

摘要：

采用磁控溅射技术,使用SiC薄膜和Ti膜作为中间层在Cr12MoV钢表面制备掺碳TiB2 (TiB2-C)薄膜,研究掺碳TiB2薄膜的Raman光谱、纳米压痕和摩擦行为.结果表明:溅射功率过高或过低都不利于掺入的C元素在薄膜中以DLC形式存在；C元素掺杂降低了TiB2薄膜的纳米硬度和弹性模量；以DLC形式存在的掺入的C能有效降低室温干摩擦(Si3N4球对摩件)条件下TiB2薄膜的摩擦因数.

关键词：掺碳、TiB2薄膜、中间层、摩擦因数、磁控溅射

分类号：TG174.4(金属学与热处理)

资助基金：江苏大学"拔尖人才工程"培育基金资助项目1211110001;江苏省摩擦学重点实验室基金资助项目kjsmcx06005

在线出版日期：2012-12-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：30-32,38