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10.3969/j.issn.1001-4381.2010.11.004

Al-N共掺杂型ZnO薄膜的制备及其性能研究

引用
采用溶胶-凝胶法制备了Al-N共掺ZnO薄膜.用X射线光电子能谱检测Al-N共掺杂情况;用X射线衍射仪、原子力显微镜、场发射扫描电镜、分光光度计、霍尔测量仪等分析测试手段,分别研究了Al-N共掺的掺杂浓度和热处理温度对薄膜的结晶性能、微观形貌和光电性能的影响.结果表明:在基质ZnO溶胶浓度为0.5mol/L,Al-N掺杂摩尔浓度为10%,热处理温度600℃下,Al-N共掺ZnO薄膜的结晶性能、微观形貌和光电性能最佳.

掺杂、ZnO、光电性能、薄膜

TN304.055(半导体技术)

2011-03-10(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共6页

11-16

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材料工程

1001-4381

11-1800/TB

2010,(11)

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