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10.3969/j.issn.1001-4381.2009.12.020

脉冲激光沉积法制备VO_2热致变色薄膜研究进展

引用
基于半导体和金属间的相变特性,伴随着温度、电场、压力的变化,具有相关智能特性的VO_2薄膜材料具有较大的应用潜力.本文主要阐述脉冲激光沉积技术在制备金属氧化物方面的物理过程和技术特点,详细介绍脉冲激光沉积制备VO_2薄膜材料的工艺参数和国内外研究进展,并与几种常规制备方法进行对比,给出脉冲激光沉积掺杂对VO_2薄膜材料特性的影响,以及采用脉冲激光沉积制备VO_2纳米材料,讨论了脉冲激光沉积制备具有智能特性的VO_2薄膜材料存在的问题和发展方向.

脉冲激光沉积、VO_2、薄膜、制备、掺杂

TB43;TN215(工业通用技术与设备)

国家高技术研究发展计划863计划专题课题资助项目2006AA03Z348;教育部科学技术研究重点资助项目207033;上海市科学技术委员会科技攻关计划资助项目06DZ11415;上海市教委科学技术研究重点资助项目06ZZ32

2010-01-29(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共6页

83-88

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材料工程

1001-4381

11-1800/TB

2009,(12)

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