MoS2/Zr复合薄膜的制备及性能研究

摘要：

采用新型中频磁控溅射技术及多弧离子镀相结合的复合镀膜工艺,在硬质合金YT14基体上制备了MoS2 /Zr复合薄膜.采用扫描电子显微镜(SEM)考察MoS2 /Zr复合薄膜表面及截面的形貌,利用能谱分析(EDX)薄膜的成分组成.测试涂层的厚度、显微硬度及涂层与基体之间的结合力等性能参数.结果表明:制备的MoS2 /Zr复合薄膜结构致密,结合力约为60N,厚度约为2.6μm,硬度约为HV800.

关键词：涂层刀具、MoS2软涂层、中频磁控溅射、MoS2/Zr复合薄膜

分类号：TB383(工程材料学)

资助基金：国家自然科学基金50475133;50675120;教育部跨世纪优秀人才培养计划NCET-04-0622

在线出版日期：2008-03-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：39-43,47