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10.3969/j.issn.1001-4381.2006.z1.005

低温沉积ITO透明导电膜的研究

引用
通过探讨半导体氧化物ITO膜的透光和导电机理,用反应性直流磁控溅射的镀膜工艺,在有机玻璃上低温镀制(ITO)膜,研究ITO膜溅射工艺参数与透光和导电性能的关系,实现了在低温下镀制(ITO)膜的技术,其透光率≥80%以上,表面电阻≤30Ω/□.

透明导电膜、ITO膜、磁控溅射

O484(固体物理学)

2006-08-09(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共3页

17-19

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材料工程

1001-4381

11-1800/TB

2006,(z1)

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