10.3969/j.issn.1001-4381.2006.z1.005
低温沉积ITO透明导电膜的研究
通过探讨半导体氧化物ITO膜的透光和导电机理,用反应性直流磁控溅射的镀膜工艺,在有机玻璃上低温镀制(ITO)膜,研究ITO膜溅射工艺参数与透光和导电性能的关系,实现了在低温下镀制(ITO)膜的技术,其透光率≥80%以上,表面电阻≤30Ω/□.
透明导电膜、ITO膜、磁控溅射
O484(固体物理学)
2006-08-09(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
17-19
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10.3969/j.issn.1001-4381.2006.z1.005
透明导电膜、ITO膜、磁控溅射
O484(固体物理学)
2006-08-09(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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