CVD法与PCVD法TiN薄膜研究

摘要：

用等离子体增强化学气相沉积(PCVD)法和化学气相沉积(CVD)法分别制备TiN系薄膜.采用扫描电镜、X射线衍射仪和连续加载压入仪研究分析薄膜的微观结构、相结构和薄膜的力学性能,并采用电极电位法测定了薄膜的耐腐蚀性能.研究表明:PCVD法TiN系薄膜的微观组织形态明显优于同类的CVD法薄膜,PCVD法薄膜晶粒尺寸细小、均匀,形态圆整,组织致密;CVD法薄膜晶粒形态为多边形,尺寸较粗大、不均匀,组织致密性差;PCVD法TiN系薄膜的韧性和结合力等力学性能可达到或优于同类CVD法薄膜;虽然PCVD法薄膜的氯含量(约为2%)远高于CVD法薄膜(约为0.5%),但PCVD法薄膜的耐蚀性能却明显优于CVD法薄膜.还研究分析了PCVD法和CVD法成膜模式对薄膜微观结构和性能的影响机理.

关键词：CVD法、PCVD法、薄膜

分类号：TG174.44(金属学与热处理)

资助基金：国家自然科学基金59775049

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：22-25