10.3969/j.issn.1004-1338.2000.02.008
吸水剖面测井沾污控制与校正处理
对吸水剖面测井中沾污形成的原因进行了分析,提出降低示踪剂的比强度和注入"冷球"两种控制吸水剖面测井沾污的新工艺.从理论上分析了如何对沾污进行校正,建立了沾污校正的解释模型.实际结果表明,对沾污进行校正后提高了吸水剖面测井的解释精度.
吸水剖面、污染防治、示踪剂、解释模型
24
P631
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
113-117
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10.3969/j.issn.1004-1338.2000.02.008
吸水剖面、污染防治、示踪剂、解释模型
24
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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