电流体喷印相邻喷嘴射流干扰机理与抑制探讨

摘要：

针对多喷嘴式电流体喷印系统中相邻喷嘴之间的带电射流干扰问题,建立电液耦合作用下的射流喷射的数值仿真模型.采用控制变量法揭示了相邻喷嘴锥射流产生干扰的原因及工作电压、供液流量和相邻间距对于射流干扰程度的影响规律.初步探讨了一种基于环形气流辅助喷射的射流干扰抑制方法,建立了气-电-液多场耦合作用下的射流喷射的数值仿真模型.通过研究不同气流速度对于射流喷射的影响规律,结果表明:射流偏斜角随着电极电压的增大而增大,随喷嘴间距的增大而减小,随溶液流量的改变不明显.在合理的工艺条件下,射流能够垂直喷射到基底上.适当的辅助气流输入(5～25 m/s)可有效抑制喷嘴锥射流因电致斥力产生的干扰.当气流速度超过临界阈值(25 m/s)后,辅助气流对喷嘴锥射流容易带来额外的不稳定性和不可控性.

关键词：电流体喷印、相邻喷嘴、射流干扰、环形气流、数值模拟

所属期刊栏目：43

分类号：TP602;TP212(射流技术（流控技术）)

资助基金：国家自然科学基金;国家自然科学基金;武汉科技大学校国防预研基金资助项目

在线出版日期：2024-01-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：25-28