微F-P腔可调谐滤波器关键工艺研究

摘要：

采用表面加工工艺，AZ5214E光刻胶进行光刻并反转，磁控溅射NiCr合金，剥离出高度为2.3μm的金属桥墩，填充聚酰亚胺作为牺牲层，再在牺牲层上光刻、沉积金属形成金属桥面，在金属桥面的中心嵌入第二布拉格反射镜。采用O2等离子体刻蚀去除聚酰亚胺膜，制作成微法布里—珀罗（ F-P）腔，不需要硅片键合，克服了传统F-P腔高度不够高、调谐范围有限、腔平整度不好以及对设备要求高的缺点，并且可以做出大阵列结构，易于探测器集成。着重对腔体关键工艺，即金属桥墩的NiCr剥离工艺进行研究，针对现有技术缺陷，提出解决办法。

关键词：微法布里-珀罗(F-P)腔、光刻反转、磁控溅射、剥离

所属期刊栏目：35

分类号：TN713(基本电子电路)

资助基金：深圳市科技研发资金资助项目JCYJ20140529163538765

在线出版日期：2016-10-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：8-11