10.3969/j.issn.1000-9787.2011.11.021
有机溶剂在P型宏多孔硅电化学腐蚀中的应用研究
近年来,多孔硅以其良好的光学、热学、电学以及机械特性使其在微传感器技术领域得到广泛的应用,电化学腐蚀多孔硅的各种方法与原理引起越来越多的关注.研究了P型硅的电化学腐蚀过程中,在腐蚀溶液中使用有机溶剂对多孔硅的制备、速率、成孔机理等方面的影响.研究发现,在分别使用有机溶剂二甲基甲酰胺(DMF)和二甲基亚砜(DMSO)的氢氟酸(HF)腐蚀溶液中,可以制备出孔壁光滑、具有高深宽比的高质量P型宏多孔硅,并发现了一种快速腐蚀P型宏多孔硅的方法,得到高达1900 μm/h的腐蚀速率,这有助于提高多孔硅在微传感器批量化生产应用中的效率.在涌流模型基础上,分析了有机溶剂的氧化性和质子(H)提供能力,以及在P型多孔硅快速腐蚀过程中的作用.
多孔硅、微机电系统、有机溶剂、快速腐蚀
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O646(物理化学(理论化学)、化学物理学)
国家自然科学基金资助项目60876079,60772030
2012-03-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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