10.3969/j.issn.1000-9787.2008.08.012
退火处理对Ti-WO3薄膜的结构和气敏特性的影响
用X射线衍射和透射电镜表征了直流磁控溅射法制得的Ti-WO3薄膜的晶型、晶格常数、粒径等.研究了退火对Ti-WO3薄膜气敏性质和微结构的影响,找出了最佳退火温度和工作温度;并对机理进行了分析.结果表明:450℃退火的薄膜的气敏效应很好,最佳工作温度在150℃左右;
直流磁控溅射、Ti-WO3薄膜、退火、气敏特性
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TP212(自动化技术及设备)
重庆市教委科研计划资助项目KJ070804
2009-01-07(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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