硅KOH腐蚀<100>晶向凸角补偿技术及应用

摘要：

在(100)硅上制作边沿<100>晶向的长方形掩模,用KOH各向异性腐蚀液腐蚀可制得竖直微镜,这种微镜存在凸角削角问题.研究了边沿<100>晶向掩模的凸角补偿技术,提出了2种凸角补偿图形,并应用于竖直微镜制作.实验表明:"工" 形补偿可获得方正的反射面;"Y"形补偿的微镜,反射面呈底角为75.96°的梯形.经补偿后的微镜,可提高光开关切换光束效率.讨论了(100)硅的<100>晶向掩模凸角补偿技术应用于微机械加速度计质量块制作的可能性.

关键词：各向异性腐蚀、削角补偿、微镜、微机械加工

所属期刊栏目：24

分类号：TN305(半导体技术)

资助基金：国家重点基础研究发展计划973计划G1999033104

在线出版日期：2005-08-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：22-24