利用电子束曝光系统制作高深宽比图形的研究

摘要：

为了加工具有高深宽比的器件,采用能量连续递减近似模型,运用蒙特卡罗方法分析高能电子束曝光领域的电子散射轨迹及背散射电子对曝光分辨力的影响,探讨了制作高深宽比图形的工艺条件.计算机模拟结果与实验结果吻合得很好,表明在其它实验条件不变的情况下,较高的加速电压能提高图形的高深宽比,提供了制作高深宽比图形的一种方法.

关键词：蒙特卡罗方法、电子束曝光、散射、高深宽比图形

所属期刊栏目：23

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2004-12-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：30-31,37