射频溅射Sn薄膜的工艺研究

摘要：

采用正交试验方法研究了射频溅射的工艺因素对Sn膜形成过程的影响,得到了射频溅射制备Sn膜新工艺的最佳条件.X-射线衍射及SEM实验结果表明在该工艺条件下得到的Sn膜为非常细小均匀的β-Sn的晶体结构.

关键词：射频溅射、Sn膜、工艺

所属期刊栏目：18

分类号：TM93;TP2

资助基金：国家自然科学基金

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：7-9