离子束溅射Lan-WDM滤光膜膜厚均匀性的研究

摘要：

光通信Lan-WDM滤光膜采用离子束溅射(IBS)沉积制备时,由于膜厚分布不均匀会导致光谱中心波长的漂移,影响有效镀膜区域.分析了离子束溅射膜厚分布特点,根据Ove Lyngnes提出的膜厚均匀性修正模型,通过修正Mask挡板来改善Ta2O5、SiO2 的膜厚均匀性.经过多次修正Mask实验,最终在12英寸的基板上,分别将Ta2O5 和SiO2 的主Mask挡板在径向方向每一点膜厚均匀性修到小于 0.1％;辅Mask挡板将内圈和外圈的膜厚均匀性修到大于 1.5％,且呈线性关系.制备中心波长分别为1295.56 nm、1300.05 nm、1304.58 nm、1309.14 nm的Lan-WDM(细波分复用)滤光膜,测得光谱透射率有效镀膜区面积相比原来分别增大了2.01倍、2.20倍、2.25倍、2.04倍,提高了滤光膜的生产效率.

关键词：薄膜、离子束溅射、膜厚均匀性、修正挡板、窄带滤光片

所属期刊栏目：46

分类号：O484(固体物理学)

资助基金：吉林省重大科技攻关专项20190302095GX

在线出版日期：2023-05-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：25-31