离子束入射角对熔石英表面粗糙度的影响

摘要：

超光滑的表面对高性能光学系统的性能至关重要,为了可以实现离子束抛光对元件表面超光滑的制造,离子束抛光(ion beam figuring,IBF)引起的元件表面形貌光滑化和粗糙化在很大程度上取决于加工条件.通常不正确的离子束抛光方法会导致光学表面的粗糙度增加,选择合适的加工方法可以减小表面的粗糙度,实现表面的超光滑.结果表明:基于高精度的离子束抛光技术,为了改善熔石英表面粗糙度,采用了0°～45°之间不同入射角度的离子束倾斜抛光进行研究,小角度(0°～30°)倾斜入射抛光可以较好地改善表面粗糙度,实现了离子束倾斜超光滑表面的生成,而在大入射角时观察到纳米级波纹图案,粗糙度值显著增大,不利于生成超光滑的表面.

关键词：超光滑;离子束;粗糙度;入射角度

所属期刊栏目：45

分类号：TH161

资助基金：宁波市科技计划项目202003N4345

在线出版日期：2022-03-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：100-104