温度对电子束沉积Nb2O5薄膜性能的影响

摘要：

氧化铌作为一种重要的氧化物薄膜材料在可见到中波红外波段广泛应用.基于电子束加热蒸发方法,研究了不同温度条件下一定厚度的氧化铌薄膜的微观结构及特性,通过Kim振动模型拟合不同工艺条件下氧化铌的光学常数色散分布,采用X射线衍射仪(X-Ray Diffraction,XRD)测试薄膜的结晶态,并用原子力显微镜(Atomic Force Microscope,AFM)检测薄膜表面粗糙度,分析温度对膜层表面粗糙度的影响规律.

关键词：氧化铌薄膜、光学常数、XRD、AFM、晶相结构

所属期刊栏目：43

分类号：O484(固体物理学)

资助基金：吉林省重大科技攻关专项20190302095GX

在线出版日期：2020-07-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：42-48