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10.3969/j.issn.1672-9870.2020.01.010

WO3纳米块薄膜光电催化性能的研究

引用
以钨酸钠(Na2WO4·2H2O)为原料,草酸铵((NH4)2C2O4·H2O)为辅助剂,采用水热法在FTO衬底上制备WO3纳米块薄膜.通过X射线衍射和扫描电子显微镜对WO3纳米块薄膜进行表征.利用光电流和光电催化测试手段,得到WO3纳米块薄膜的光电流值和光电催化降解效率等参数,并对其进行详细分析.通过研究水热时间对WO3纳米块薄膜光电催化性能的影响,结果显示水热生长4 h的WO3纳米块薄膜具有良好光电流和光电催化性能.

WO3纳米块薄膜、水热法、光电流、光电催化

43

O643.36(物理化学(理论化学)、化学物理学)

国家自然科学基金资助项目51502023

2020-04-10(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

58-62

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长春理工大学学报(自然科学版)

1672-9870

22-1364/TH

43

2020,43(1)

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