基于DMD的数字光刻定焦变倍投影系统设计

摘要：

随着数字光刻技术的快速发展,基于数字微镜器件(DMD)的光刻技术受到微纳加工及相关行业人员的广泛关注.为实现基于0.9WQXGA型DMD的数字光刻,同时为避免投影系统与照明系统存在重叠空间,为满足数字光刻时不同幅面尺寸和精度的需求,设计了具有分束棱镜的投影系统.镜头的有效焦距50mm,相对孔径1/3,像高11.6mm,光学总长142mm,工作波段395~415nm,后工作距为27~29mm,整个投影系统为像方远心系统,可将DMD放大10~15倍.在70lp/mm处,所有组态视场的MTF值都大于0.55,畸变绝对值都小于0.5%.此设计结果像质优良、结构紧凑、符合实际数字光刻使用要求.

关键词：DMD、数字光刻技术、光学设计、投影系统

所属期刊栏目：42

分类号：TN202;TN23(光电子技术、激光技术)

资助基金：北京市科技创新引导基金专项Z171100002317016

在线出版日期：2019-11-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：52-56