热蒸发HfO2薄膜光学常数表征

摘要：

薄膜材料库中的光学常数与实际制备的相比有很大差别,精确求解在特定工艺条件下的光学常数对设计和制备多层薄膜具有重要意义.在熔融石英(JGS1)基底上,采用热蒸发沉积方法制备了厚度为330nm的单层HfO2薄膜,利用分光光度计测量薄膜的透射率和反射率,并采用包络法和光度法分别计算得到230nm~800nm范围内折射率n和消光系数k的色散曲线.两种方法确定的HfO2薄膜厚度分别为331.22nm和331.03nm,两者偏差为0.057%;在266nm处两种方法确定的折射率相差0.011,消光系数相差10-5量级.结果表明,运用包络法和光度法确定HfO2薄膜光学常数的拟合结果吻合较好,能够相互验证且避免了单一方法求解过程中所产生的误差.

关键词：薄膜、光学常数、包络法、光度法、HfO2

所属期刊栏目：40

分类号：O484.41(固体物理学)

资助基金：长春理工大学青年科学基金项目XQNJJ-2015-05

在线出版日期：2017-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：18-21,37