球面基底上制作微柱面透镜工艺研究

摘要：

针对目前在球面基底上制作微透镜阵列工艺复杂，制作成本昂贵等问题，介绍了一种激光直写光刻和光刻胶热熔成型相结合的新的加工技术。为此改造了球面刻划机，搭建了405nm激光曝光光源系统，同时建立三维坐标体系，实现微透镜阵列在球面空间位置的定位。在理论分析和合理设计的基础上，使用BP212正性光刻胶在口径50mm，曲率半径60mm的球面基底上制作出线宽为50μm，矢高为2μm，切面曲率半径约为157μm的微柱面透镜阵列，并给出了测试结果。结果表明：在球面基底曲率半径一定时，通过阶梯升温光刻胶和对其快速冷却等微细加工方法，克服了光刻胶熔融状态时的流动性问题，证明此种加工方法对球面微透镜阵列的制作具有很好的可行性。

关键词：球面基底、微透镜阵列、激光直写光刻、光刻胶热熔

分类号：TH706(仪器、仪表)

在线出版日期：2015-01-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：16-19