射频磁控溅射中偏压对薄膜污染的影响

摘要：

　　薄膜溅射过程中杂质污染问题是影响薄膜质量的重要因素，会造成薄膜的吸收和散射损耗增大、结合力下降，形成针孔等。采用射频磁控溅射沉积氧化铝薄膜时，发现在不同负偏压条件下，真空室内的金属离子会造成不同程度薄膜污染，采用XPS对污染物进行了测试表征，并对污染来源进行了分析，最后得出结论：在较高负偏压条件下真空室器壁金属溅射，是造成镀制氧化铝薄膜的重要污染源。

关键词：射频磁控溅射、氧化铝薄膜、偏压、薄膜污染

分类号：TB79(真空技术)

资助基金：中国科学院大连化学物理研究所创新基金项目K2010B1

在线出版日期：2013-09-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：63-64,94