计量光栅盘真空镀铬机理与工艺研究

摘要：

在计量光栅盘的制作过程中,真空镀铬是影响计量光栅盘精度和成品率的主要工序之一.为了提高计量光栅盘的精度及成品率,对计量光栅盘真空镀铬原理及膜层形成机理进行了分析,给出了影响铬层致密性及牢固度的主要因素与铬层均匀性和蒸发距离之间的关系式,并针对其原因对相关工艺进行了改进,实验证明改进后的工艺对改善铬膜的致密性和牢固度及均匀性起到了一定的作用,使计量光栅盘的成品率提高了10%,同时也为进一步改善后续工艺提供了理论依据.

关键词：真空镀铬、致密性、均匀性、蒸发距离

所属期刊栏目：34

分类号：TP135(自动化基础理论)

资助基金：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所三期创新项目Y00332H100

在线出版日期：2011-12-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：1-4