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10.3969/j.issn.1672-9870.2009.01.044

VO2薄膜的制备及其喇曼光谱研究

引用
介绍VOz薄膜的结构、性质并采用射频磁控溅射法分别在玻璃、熔融石英以及蓝宝石衬底上沉积了高品质的VOz薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)分析了VO2薄膜的微结构,探索了非理想配比对VO2薄膜的喇曼光谱的影响,讨论了非理想配比导致VO2薄膜喇曼光谱变化的原因.

VO2薄膜、射频磁控溅射、喇曼光谱、非理想配比

32

O484.4(固体物理学)

国家电力公司东北公司长春超高压局资助项目JG0713

2009-05-22(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

146-149

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长春理工大学学报(自然科学版)

1672-9870

22-1358/TH

32

2009,32(1)

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