10.3969/j.issn.1672-9870.2009.01.044
VO2薄膜的制备及其喇曼光谱研究
介绍VOz薄膜的结构、性质并采用射频磁控溅射法分别在玻璃、熔融石英以及蓝宝石衬底上沉积了高品质的VOz薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)分析了VO2薄膜的微结构,探索了非理想配比对VO2薄膜的喇曼光谱的影响,讨论了非理想配比导致VO2薄膜喇曼光谱变化的原因.
VO2薄膜、射频磁控溅射、喇曼光谱、非理想配比
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O484.4(固体物理学)
国家电力公司东北公司长春超高压局资助项目JG0713
2009-05-22(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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