10.3969/j.issn.1672-9870.2008.02.014
离子束辅助沉积红外增透薄膜工艺
光纤接入网络的快速发展对光纤传输的光学性能方面提出了严格的要求.文中阐述了电子束离子辅助沉积系统在室温下镀制光纤端面近红外1520nm~1580nm范围增透膜的应用.讨论了膜料的选择、膜系的设计以及镀制过程中光学监控的工艺参数,制备出了光学性能较好的薄膜.
离子束辅助沉积、红外增透膜、光纤、膜厚控制
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TB43(工业通用技术与设备)
国家863计划资助项目
2008-07-10(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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