Mentor Graphics工具启用英特尔14nm工艺

摘要：

近日，Mentor Graphics与英特尔公司宣布，Mentor的电路模拟和验收工具已经完全启用英特尔面向Intel Custom Foundry客户的14nm三栅极工艺技术。MentoroR和Intel Custom Foundry将为电路模拟、设计规则检查（DRC）与布局对面向移动和云基础架构应用的电路结构检查（LVS）提供模型和设计规则。MentorGraphics Calibre设计解决方案高级营销总监Michael Buehler-Garcia表示：“我们的目标是为无晶圆半导体公司提供完全优化他们设计的能力，从而利用英特尔的14nm工艺提供的所有功能。”

机标关键词：工具、英特尔、设计规则检查、电路模拟、解决方案、结构检查、基础架构、工艺技术、全优化、半导体、总监、栅极、营销、应用、移动、验收、能力、目标、模型、客户

分类号：G4 ;F40

在线出版日期：2014-08-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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