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10.19554/j.cnki.1001-3563.2024.01.012

基于微纳米压印的微透镜阵列光学膜制造研究

引用
目的 实现裸眼 3D 显示效果的承印基材是微透镜阵列光学膜,本文旨在研究制造微透镜阵列光学膜的方法及在制造过程中的影响因素.方法 采用卷对卷的UV-LED光固化微纳米压印工艺,通过定制化的微纳米压印模具,规模化制造正六角形孔径、蜂窝排布的微透镜阵列光学膜.结果 文中所用的PET膜表面粗糙度均方差约为 0.083 μm,可见光波段的透光率为 90%~93%,具有良好的表面平整度和较高的透光率,有利于微透镜阵列的成型制造和光学膜优良光学性能的呈现;UV-LED紫外压印光刻胶具有较低的黏度(250 Paꞏs,25℃)、良好的界面性能(接触角为 93°)和较小的固化体积收缩率(3.5%),有利于光刻胶对模具凹槽的填充及微透镜阵列的成型和脱模.对于微纳米压印制造过程,要选择合适的压印力,既要确保光刻胶能够充分地填充模具凹槽,又要避免微透镜阵列的结构受挤压变形而导致损坏模具.当压印速度控制在 5~7 m/min时,微透镜阵列的复型精度较高且成型质量较为稳定,不会出现气泡缺陷和拉断缺陷.结论 卷对卷的UV-LED光固化微纳米压印工艺是一种制造微透镜阵列光学膜行之有效的方法.

微透镜阵列、微纳米压印、光学膜、3D显示

45

TB34(工程材料学)

广东省科技专项;深圳职业技术学院青年创新项目

2024-01-20(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共10页

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1001-3563

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