基于PLC的原子沉积设备控制系统设计与实现

摘要：

目的 为提高原子沉积镀膜工艺的可靠性,稳定薄膜质量,设计基于可编程逻辑控制器(PLC)的一种原子层沉积设备控制系统.方法 针对工作原理和工艺需求,根据传感器和执行器的特点,确定了以西门子S7–200 Smart PLC为控制器,以昆仑通态1070Gi触摸屏作为人机界面的硬件系统方案,实现所有逻辑控制;并利用PLC的晶体管输出端子,采用"PID+PWM"技术进行加热区域温度控制.结果 该控制系统实现了原子沉积镀膜一键操作,保证了镀膜过程中高精度温度均匀性要求(±1℃),确保了设备的可靠性和沉积薄膜的可重复性.结论 经实际应用,证明该控制系统具有稳定性好、误差小、自动化程度高等优点,达到了工艺要求.

关键词：原子层沉积、PLC、温度控制、脉冲宽度调制

所属期刊栏目：44

分类号：TP23(自动化技术及设备)

资助基金：国家自然科学基金;北京市教委联合项目;北京市属高校高水平创新团队建设计划项目

在线出版日期：2023-02-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：162-168