射频磁控溅射SiOx薄膜的制备与阻隔性能研究

摘要：

利用磁控溅射技术,以SiO2为靶材,Ar为射频源气体,在PET基材上制备SiOx薄膜.研究了不同放电功率、氩气流量、镀膜时间等参数对SiOx薄膜阻隔性能的影响.结果表明:在一定范围内,薄膜的阻隔性能随放电功率的增大而增大,而后逐渐减小;氩气流量对薄膜的阻隔性能也有一定影响;镀膜时间在10min时SiOx薄膜的阻隔性能最好.扫描电镜SEM测试表明,在氩气流量为100cm3/min,镀膜时间10min,1500W放电功率下制备的SiOx薄膜阻隔性能较好、表面较均匀.

关键词：磁控溅射、SiOx薄膜、阻隔性能、透氧、透湿

所属期刊栏目：30

分类号：TB487;TB43(工业通用技术与设备)

资助基金：国家科技支撑重大项目2006BAD05A05;黑龙江省研究生创新基金YJSCX2008-194HLJ

在线出版日期：2009-07-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：21-23