DBD等离子体合成类金刚石薄膜及其性能表征

摘要：

利用一种新颖的高气压介质阻挡放电(DBD)等离子体下游区装置,以CH4、H2和Ar气体分别作为碳源与稀释气体,成功地进行了快速合成类金刚石薄膜的探索.实验分别研究了不同气体比例条件下类金刚石薄膜的生长情况.并对所合成的薄膜分别进行了水接触角、表面粗糙度、红外光谱和Raman光谱测试分析.结果表明,在放电等离子体下游区能够快速沉积特征峰明显的类金刚石薄膜,充分体现了高气压介质阻挡放电在材料合成方面的优势.

关键词：DBD等离子体、合成、类金刚石薄膜、性能表征

所属期刊栏目：29

分类号：O539;TB383(等离子体物理学)

资助基金：北京市委组织部优秀人才计划20081D0500400136;北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室开放课题KF200813;院选青年科研基金09000108001

在线出版日期：2009-03-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：44-46