10.3969/j.issn.1001-3563.2008.10.029
射频等离子体增强化学气相沉积类金刚石薄膜的结构及摩擦学性能研究
以C2H2为碳源,Ar为辅助气体,利用射频等离子体化学气相沉积的方法在载玻片上成功地制备了类金刚石(DLC)薄膜.通过红外光谱分析了所制备DLC薄膜的结构;利用原子力显微镜分析了薄膜的表面形貌;通过表面轮廓仪测量了薄膜的沉积速率;还利用摩擦磨损仪对薄膜的机械性能进行了研究.实验结果表明,制备的DLC薄膜比较致密、均匀,有较好的耐磨性能.
PECVD、类金刚石膜、结构分析、摩擦性能
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TB43;TB487(工业通用技术与设备)
2008-11-18(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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