氧化铝薄膜磁控溅射工艺参数对PET基体温度的影响

摘要：

研究了在柔性基体PET上磁控溅射氧化铝薄膜的过程中,离子刻蚀、负偏压和溅射功率对基体温度的影响,结果表明3个参数都对基体温度产生影响,为了防止PET的受热变形,离子刻蚀功率应控制在500W以下,负偏压应控制在200V以下,溅射功率应低于1000W.

关键词：磁控溅射、陶瓷薄膜、基体温度

所属期刊栏目：29

分类号：TB43;TB484.5(工业通用技术与设备)

资助基金："十一五"国家科技支撑计划项目课题资助2006BAD05A05;印刷包装材料与技术北京市重点实验室开放课题KF200705

在线出版日期：2008-11-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：80-82