ECR-RF双功率源等离子体化学气相沉积制备类金刚石薄膜的研究

摘要：

利用微波ECR加射频功率源等离子体化学气相沉积技术,以CH4为碳源气体,Ar气为稀释气体,在硅片(100)上制备了类金刚石薄膜.Raman光谱证实了薄膜的类金刚石特性;傅立叶变换红外光谱表明薄膜中存在明显的C-H键结构.采用AFM观察了表面形貌,均方根粗糙度大约为1.489nm,表明薄膜表面比较光滑.最后对其进行了摩擦性能测试,薄膜的平均摩擦系数为0.102.

关键词：微波ECR等离子体化学气相沉积、类金刚石薄膜、平均摩擦系数

所属期刊栏目：29

分类号：TB43;TB484.5(工业通用技术与设备)

在线出版日期：2008-11-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：25-27