磁控溅射陶瓷薄膜(SiOx)阻隔性机理的研究

摘要：

研究了磁控溅射镀陶瓷薄膜(SiOx)使PET基体阻隔性提高的机理,并对SiOx层的堆积结构做了假设及理论分析,结合SEM形貌表明:磁控溅射SiOx层存在层状结构及针孔随机分布,阻隔性的提高可由努森扩散和层流两种机理加以解释,即在一定的压力差下,阻隔性提高决定于针孔的分布、陶瓷层厚度以及SiOx层数.

关键词：磁控溅射、陶瓷膜、努森扩散、层流

所属期刊栏目：29

分类号：TB43;TB484.5(工业通用技术与设备)

资助基金："十一五"国家科技支撑重大项目2006BAD05A05;印刷包装材料与技术北京市重点实验室开放课题KF200705

在线出版日期：2008-11-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：12-14