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10.3969/j.issn.1001-3563.2008.10.003

磁控溅射陶瓷薄膜(SiOx)阻隔性机理的研究

引用
研究了磁控溅射镀陶瓷薄膜(SiOx)使PET基体阻隔性提高的机理,并对SiOx层的堆积结构做了假设及理论分析,结合SEM形貌表明:磁控溅射SiOx层存在层状结构及针孔随机分布,阻隔性的提高可由努森扩散和层流两种机理加以解释,即在一定的压力差下,阻隔性提高决定于针孔的分布、陶瓷层厚度以及SiOx层数.

磁控溅射、陶瓷膜、努森扩散、层流

29

TB43;TB484.5(工业通用技术与设备)

"十一五"国家科技支撑重大项目2006BAD05A05;印刷包装材料与技术北京市重点实验室开放课题KF200705

2008-11-18(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

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1001-3563

50-1094/TB

29

2008,29(10)

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