10.3969/j.issn.1001-3563.2008.07.004
离子刻蚀对磁控溅射氧化铝薄膜的影响
研究了PET薄膜表面经氩离子刻蚀后其物理性能的变化,经氩离子刻蚀后磁控溅射沉积Al2O3薄膜表面的测试结果表明:离子刻蚀使PET基体表面更加洁净;Al2O3与基体的结合强度增大;镀膜表面更加均匀;虽然对阻隔性的影响不大,但由于结合强度的增加,Al2O3膜在使用的过程中,膜层不易脱落,对保持阻隔性有一定的作用.
离子刻蚀、磁控溅射、陶瓷薄膜、阻隔性
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TB43;TB487(工业通用技术与设备)
"十一五"国家科技支撑计划资助2006BAD05A05;印刷包装材料与技术北京市重点实验室开放课题KF200705
2008-09-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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9-10,13