10.3969/j.issn.1001-3563.2006.04.021
单体对大气下沉积SiOx薄膜的性能研究
在大气压下,利用工作在16kHz的介质阻挡放电(DBD)等离子枪,以氩气为工作气体,分别用四甲基硅氧烷(TEOS)、六甲基硅氧烷(HMDSO)和八甲基环四硅氧烷(D4)为单体,通过改变载气流量、等离子体放电功率等研究聚合SiOx薄膜的结构性能影响.采用红外光谱(FTIR)分析所沉积SiOx薄膜的结构,通过接触角测试了解其表面亲/疏水性能.
大气压DBD、SiOx、单体
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TQ325;TB484
北京市教委科研项目;北京印刷学院校科研和教改项目
2006-09-18(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
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