10.14024/j.cnki.1004-244x.20181224.002
脉冲条件下Ni-纳米TiC复合镀层制备及结构表征
为研究纳米TiC浓度和占空比对复合镀层的表面形貌、沉积速率和显微硬度的影响,用单脉冲复合电镀技术在Q235钢表面电沉积Ni-纳米TiC复合镀层,用扫描电子显微镜、倒置金相显微镜、X射线衍射仪和维氏显微硬度计分析,确定制备复合镀层的最佳工艺条件.结果 表明:随着镀液中纳米TiC浓度和占空比的增加,复合镀层沉积速率和显微硬度均呈先上升后下降的趋势,当镀液中纳米TiC的质量浓度为8 g/L、占空比50%时,复合镀层中纳米TiC复合量最佳,此时,沉积速率为40.32×10-6m/h,显微硬度为360.8HV0.1,是基体硬度的2.5倍.最佳工艺条件下制备的复合镀层表面较致密,物相镀层由晶态的Ni和TiC相构成.
脉冲复合电镀、纳米TiC、工艺参数、沉积速率、显微硬度
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TG174(金属学与热处理)
辽宁省教育厅科学技术研究资助项目LJYL007
2019-10-25(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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