模具自由曲面变轨迹抛光技术研究

摘要：

针对模具自由曲面抛光效率低、磨粒抛光轨迹均匀性差的问题,提出一种变轨迹弹性抛光轮技术.介绍了弹性抛光轮工具的工作原理与机械结构设计,以Preston方程结合赫兹接触理论为指导,对抛光接触区内的压力分布、速度分布和磨粒抛光轨迹均匀性进行研究,建立抛光工具的材料去除模型.基于运动学模型,利用Matlab对弹性抛光轮工具在不同转速比下的抛光轨迹进行仿真,并根据均匀性评价标准对仿真结果进行对比分析.结果表明:转速比对磨粒抛光轨迹均匀性有重要影响,在下压量为0.5 mm、抛光接触圆直径为5 mm、公转3周时,转速比为10.645 751的CV值比转速比为10时降低了32％;当转速比趋于无理数时,抛光轨迹均匀性明显优于整数转速比,去除函数更加饱满.

关键词：变轨迹抛光技术、弹性抛光轮工具、去除函数、抛光轨迹均匀性

所属期刊栏目：40

分类号：TG580.695(金属切削加工及机床)

资助基金：国家自然科学基金51375361

在线出版日期：2017-06-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：1-6