10.3969/j.issn.1004-244X.2012.05.016
工艺参数对磁力搅拌-化学沉积Ni-P-SiC镀层的影响
用磁力搅拌-化学沉积的方法,在45钢表面沉积Ni-P-SiC镀层.研究了SiC微粒添加量、搅拌速率以及镀液温度等对镀层硬度和表面形貌的影响,借助扫描电子显微镜(SEM)对镀层进行观察.结果表明:当SiC的质量浓度为10 g/L时,镀层显微硬度最大(615.2HV);当磁力搅拌速率为300 r/min时,镀层的显微硬度最大(632.8HV).磁力搅拌-化学沉积Ni-P-SiC镀层的最佳工艺参数为:SiC添加的质量浓度10 g/L,搅拌速率300 r/min,温度85℃.
磁力搅拌、Ni-P-SiC镀层、工艺、显微硬度、表面形貌
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TQ153
2012-11-28(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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