VO2薄膜研究进展与发展趋势

摘要：

VO2是一种新型材料,在68℃左右可发生低温半导体与高温金属相之间的可逆相变.综述了V02薄膜的基本性能,介绍几种常用的VO2薄膜制备方法,对VO2薄膜的应用以及VO2薄膜相变温度的控制方面的研究进展进行探讨；对VO2薄膜的不同应用方向、未来发展趋势及研究重点进行展望.

关键词：VO2薄膜、制备方法、相变温度

所属期刊栏目：35

分类号：O436(光学)

在线出版日期：2012-10-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：109-112