化学镀钯拖缸现象的电化学研究

摘要：

目的用电化学的方法探究化学镀钯出现拖缸现象的原因方法通过开路电位方法探测化学镀钯的引发过程,利用线性扫描伏安法测量极化曲线.在测量阳极极化曲线时不加入钯盐;在测量阴极极化曲线时,不加入次亚磷酸钠.分别求得次亚磷酸钠的起始氧化的电位(EO)、钯离子的起始还原电位(ER)随温度变化的关系曲线,以及甘氨酸浓度对EO和ER的影响,并且采用化学镀实验,研究钯层厚度变化与甘氨酸浓度的关系.结果发现第1次使用和多次使用的化学镀钯液对引发钯沉积的快慢存在差异,即存在拖缸现象.在镀钯过程中,温度越高,镀液活性越强,越不容易出现拖缸现象,同时稳定性也会下降.在电化学实验中发现,EO随着温度的升高而负移,ER随着温度的升高而正移,二者的差值|ΔE|总体上随着温度的升高而减小.ΔE可以反映镀液的稳定性和衡量化学镀钯引发的难易程度.ΔE<0意味着镀液稳定,化学镀钯需要在催化剂表面引发.当|ΔE|≤0.73 V时,化学镀钯可以正常引发.当|ΔE|>0.73 V时,引发过程存在拖缸现象.甘氨酸的浓度可以影响ΔE.当甘氨酸的质量浓度接近10 g/L时,拖缸现象不明显,无甘氨酸或者其质量浓度大于20 g/L时,容易出现拖缸现象.结论 ΔE的值与化学镀钯液的稳定性和拖缸现象是否发生有关.

关键词：拖缸、化学镀钯、开路电位、线性扫描伏安法、稳定性

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分类号：TG174.4(金属学与热处理)

在线出版日期：2023-03-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：377-384,403